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流體拋光工藝是一種通過控制壓力和流量的方法，使得材料表面得到拋光和平整的過程。流體拋光工藝分為化學(xué)拋光和物理拋光兩種。
化學(xué)拋光是一種利用化學(xué)試劑來去除材料表面的微觀缺陷和細(xì)節(jié)的過程?；瘜W(xué)拋光的價(jià)格通常取決于使用的化學(xué)試劑和拋光過程的復(fù)雜性。
物理拋光是一種通過機(jī)械方法來去除材料表面的微觀缺陷和細(xì)節(jié)的過程。物理拋光的價(jià)格通常比化學(xué)拋光便宜。
因此，流體拋光工藝的價(jià)格通常取決于所使用的化學(xué)試劑和拋光過程的復(fù)雜性。一些常用的流體拋光工藝包括：PVD（物理氣相沉積）、CVD（化學(xué)氣相沉積）、EB（電子束熔凝）等。
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